El significado de “sputter”
Partes del discurso (clasificación de palabras en inglés): verbo
[
T
,
yo
]
[decir algo en una serie de estallidos rápidos, especialmente cuando se está sorprendido o enojado] se usa para significar:
[
1
]
Literatura
[Una vez que estalla la actividad, sigue siendo débil y no da confianza a la gente] se utiliza para expresar.
Referencia: Lista de ejemplos de “sputter”
Esta es una lista de sinónimos de ” “sputter”. ¡Intentemos recordarlos en orden!
¡Dominemos el uso de la palabra “sputter” aprendiendo una lista de antónimos y palabras opuestas!
” “sputter” es una palabra en inglés que tiene varios significados diferentes. ¡Exploremos cada significado y su uso a través de ejemplos!
| Inglés | Significado | ¡Explicación detallada! |
| sputter | escupir, escupir | (Chorros de saliva, etc.) |
| The speaker sputtered during his speech, spraying some audience members with saliva. | ||
| El orador chapoteó durante su discurso y su saliva golpeó a algunos asistentes. | ||
| sputter | Sopla de tu boca ~ | (Comida: escupir, rociar ) |
| sputter | chisporrotear | (Fuego: silbar, escupir ) |
| hacer un zumbido | ( motor de coche, etc. ) | |
| The fire crackled and sputtered. | ||
| El fuego crepitó. | ||
| sputter | Dilo más rápido | (habla arrastrando las palabras) ( emocionado, intranquilo ) |
| sputter [sth] | Recubrimiento por pulverización catódica | (recubierto con partículas metálicas) ( microscopio electrónico ) |
| The company developed a system to sputter glass more efficiently. | ||
| La empresa desarrolló un sistema para pulverizar vidrio de manera más eficiente. | ||
| sputter | Chisporroteando, crepitando | (sonido de escupir) |
| Do you hear that sputter coming from the engine? | ||
| ¿Puedes oír el motor crepitar? | ||
| sputter | tartamudear, tartamudear | (tartamudeo o discurso enojado ) |
| “Wh-what do you think you’re doing?” she demanded with a sputter. | ||
| “¿Qué crees que estás haciendo?”, preguntó. | ||
” sputter” es una palabra en inglés que tiene varios significados diferentes. ¡Exploremos cada significado y su uso a través de ejemplos!
By using the sputtering target, a
sputter
film having excellent insulation resistance and homogeneity can be obtained.
Si se utiliza este objetivo de pulverización catódica, se puede obtener una película
pulverizada
con excelente resistencia al aislamiento y uniformidad.
Familiar with at least one of vacuum processes such as dry etching, E-gun evaporation, and
sputter
deposition.
Debe estar familiarizado con al menos un proceso que utiliza equipos de vacío, como el grabado en seco, la evaporación con cañón de electrones o la deposición
por pulverización catódica
.
Pores and
sputter
that occur when a zinc-plated steel plate is welded are thus suppressed.
Suprime los poros y
las salpicaduras
al soldar láminas de acero galvanizado.
A
sputter
film formed on the surface of an organic thin film without causing any damage thereon.
Forma una película
pulverizada
sobre la superficie de una película orgánica sin dañarla.
The objective is to achieve improved
sputter
process efficiency and production efficiency for a magnetron sputtering method that uses a rectangular target.
El objetivo de la presente invención es mejorar la eficiencia del procesamiento
de pulverización catódica
o la eficiencia de producción en la pulverización catódica con magnetrón utilizando un objetivo rectangular.
Minimal spatter is generated which reduces the
sputter
removal steps.
La cantidad de salpicaduras generadas es pequeña, lo que reduce la cantidad de procesos de eliminación
de salpicaduras
.
A simple and inexpensive gas nozzle for arc welding capable of reducing adhesion of
sputter
and enhancing welding quality and welding workability.
La presente invención proporciona una boquilla de gas para soldadura por arco, que es sencilla y económica de fabricar, puede reducir la adhesión
de salpicaduras
y mejorar la calidad y trabajabilidad de la soldadura.
Thus, it is possible to erroneously detect a neck and accurately perform neck judgment, thereby reducing generation of
sputter
.
De esta manera, se puede evitar la detección errónea del cuello y se puede realizar la determinación del cuello con precisión, reduciendo así la aparición de
salpicaduras
.
Fe, Co and Fe0.7Co0.3 were
sputter
deposited with Al in nitrogen atmosphere to improve the thermal stability of their nitride thin films.
Los resultados muestran que el objetivo compuesto de Fe, Co, Fe0,7Co0,3 y Al
se pulveriza
en una atmósfera de nitrógeno para formar una película de solución sólida con AlN.
Provided is a sputtering technology for uniformly forming a film with
sputter
particles even on a work having a complicated three-dimensional shape.
El objetivo de la presente invención es proporcionar una tecnología de pulverización catódica que pueda depositar uniformemente partículas
pulverizadas
incluso en piezas de trabajo con formas tridimensionales complejas.
There are provided a pulse welding control method and a pulse arc welding device capable of stabilizing arc and reducing a
sputter
generation amount.
La invención proporciona un método de control de soldadura por impulsos y un dispositivo de soldadura por arco por impulsos que puede estabilizar el arco y reducir la cantidad de
salpicaduras
generadas.
Applications other than transparent conductive films
Sputter
deposited films also play a role as optical films that suppress light reflection or enhance transparency to make a display screen easier to see.
Usos distintos de la película conductora transparente
La película de pulverización
catódica también se puede utilizar como película óptica para suprimir el reflejo de la luz y mejorar la transparencia, haciendo que la pantalla sea más fácil de ver.
The
sputter
deposited second substrate and a first substrate on which a phosphor is arranged are sealed with a sealing material, thereby forming a vacuum container.
El recipiente
de vacío
se forma sellando el segundo sustrato sobre el cual se deposita el material de deposición por pulverización catódica y el primer sustrato sobre el cual se dispone el fósforo con un material sellante.
Equipment for vacuum coating and research including pumps, chambers, magnetrons, power supplies,
sputter
systems, turbopumps, cryo pumps and compressors.
Equipos de investigación y recubrimiento al vacío, como bombas, cámaras de vacío, magnetrones, fuentes de alimentación, equipos
de pulverización catódica
, turbobombas, criobombas y compresores.
A magnetron sputtering device is used to
sputter
a ZnO target (28) as the material of the thin film to form a flow of the material (a material flow) from a cathode (23) toward an anode (24) in plasma.
Se utiliza un dispositivo de pulverización catódica con magnetrón para
pulverizar
el objetivo de ZnO 28 como una materia prima de película delgada, y se forma en el plasma un flujo de materia prima (flujo de materia prima) desde el cátodo 23 hacia el ánodo 24.
With the development of modern thin film deposition and growth techniques in the latter half of the 20th century, such as chemical vapour deposition,
sputter
deposition, and cathodic arc deposition, it became possible to fabricate truly amorphous carbon materials.
A finales del siglo XX, con el desarrollo de métodos de deposición de capas finas, como la deposición química de vapor, el crecimiento
por pulverización catódica
y el crecimiento por arco catódico, fue posible crear carbono verdaderamente amorfo.
At this time, the stop position of the treated substrate is so changed that the portion of the treated substrate surface to confront the region between the individual targets may shift between the mutually continuing
sputter
chambers.
En este momento, la posición de parada del sustrato procesado se cambia entre cámaras
de pulverización catódica
consecutivas, de modo que la porción de la superficie del sustrato procesado que mira hacia el área entre los objetivos respectivos está desplazada.
The invention is intended, in a vertical type plasma processing device, to prevent damage to a processing subject due to plasma and to suppress the generation of
sputter
due to hollow cathode discharge and plasma, without lowering the radical utilization efficiency.
El objetivo de la presente invención es evitar daños al objeto a procesar por plasma sin reducir la eficiencia de la utilización de radicales libres en un dispositivo de procesamiento de plasma vertical, y suprimir la generación de descarga de cátodo hueco y
salpicaduras
causadas por el plasma.
In addition, controlling the crystal orientation in the
sputter
surface of the target has the effect of making it possible to minimize abnormal electrical discharge during sputtering.
Además, controlando el tamaño del grano de cristal de
la superficie de pulverización
catódica del objetivo, se puede suprimir la descarga anormal durante la pulverización catódica.
An electric power is thrown into the individual targets in the
sputter
chambers, in which the treated substrate exists, so that the individual targets are sputtered to laminate identical or different thin films on the surface of the treated substrate.
[Solución] El sustrato procesado S se transporta a una posición opuesta a cada objetivo entre la pluralidad de cámaras de pulverización 11a y 11b en las que el mismo número de objetivos 31a a 31h están dispuestos uno al lado del otro a intervalos iguales, y en presencia del El sustrato que se procesa en
la cámara de pulverización catódica
, se aplica energía a cada objetivo para pulverizar cada objetivo y depositar la misma o diferentes películas delgadas sobre la superficie del sustrato que se procesa.
¡Escuche el sonido terrestre (pronunciación) de ” sputter “!
La pronunciación es “ˈspʌt.ər”. Mientras escuchas el video a continuación, pronuncia “ˈspʌt.ər” en voz alta.

