「anneal」の意味(verb)
品詞(英単語での分類):動詞
エンジニアリング 特化した【金属やガラスを加熱してからゆっくり冷やして柔らかくすること】意味として使われています。
和訳：【アニールする】
参考：「anneal」の例文一覧
「anneal」のネイティブ発音（読み方）を聞きましょう！
読み方は【əˈniːl】です。下記動画を聞きながらəˈniːlを大声で発音しましょう
【絶対聞こう】アメリカ人が「anneal」の意味について解説】！
「anneal」の類語一覧です。順番に覚えましょう!
対義語・反対語一覧を覚えることで、annealの単語を使いこなしましょう!
「anneal」は複数の異なる意味を持った英単語です。それぞれの意味と使い方などを例文から解説しましょう！
| 英語 | 意味(和訳) | 詳しく解説！ |
| anneal | ～を焼きなます | (glass, metal: temper) ( ガラス・金属など ) |
2023版〜語彙力を強化したいなら！「anneal」に関するの他の意味にも勉強しましょう
| 英語 | 意味(和訳) | 詳しく解説！ |
| anneal [sth] | アニーリングする | (biochemistry: recombine DNA strands) ( 分子生物学 ) |
「anneal」は複数の異なる意味を持った英単語です。それぞれの意味と使い方などを例文から解説しましょう！
| 英語 | 意味(和訳) | 詳しく解説！ |
| anneal | ～を焼きなます | (glass, metal: temper) ( ガラス・金属など ) |
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| 英語 | 意味(和訳) | 詳しく解説！ |
| anneal [sth] | アニーリングする | (biochemistry: recombine DNA strands) ( 分子生物学 ) |
annealの実際の意味・ニュアンス(アニール？を理解して、正しく使いましょう！
Applications include monitoring edge damage to prevent costly wafer breakage during ultra fast anneal.
アプリケーションには、超高速アニール中の高価なウェーハ破損を防ぐためのウェーハエッジ損傷の監視が含まれます。
Leading edge equipment manufacturers integrate lasers for critical applications such as lithography and ultrashort anneal to allow extremely rapid throughput and provide process defect control enabling sustainably high yield.
最先端の機器製造業者は、リソグラフィ、非常に短いアニールなどの重要な用途向けにレーザーを統合することにより、超高速のスループットが可能になり、持続的な大量生産を行うためのプロセス欠陥制御が行われます。
Furthermore, since complicated processes suchas anneal processing and equipment for such processes are not required, a large quantity of discs can be manufactured at a low cost in a short time.
また、アニール処理のような複雑な工程やそれに伴う設備を必要としないため、低コストかつ短時間でディスクの大量生産が可能となる。
Blue and red sheet corresponds to single carbon atomic layer each. (a) defect induce by anneal(b) Unzip by sonication.
赤・青部分がそれぞれ炭素原子層一枚で構成される。（a） アニールで欠陥を作製 （b） 超音波でアンジップ。
Thereafter, the photoelectric conversion layer (5) interposed between the first electrode (3) and the second electrode (7) is subjected to anneal treatment.
そして第１電極３及び第２電極７によって挟み込まれた光電変換層５に対してアニール処理を施す。
[PROBLEMS] To attain a further enhancement of photoelectric conversion efficiency even when a photoelectric conversion layer after formation of a second electrode is subjected to anneal treatment.
【課題】第２電極を形成済みの光電変換層にアニール処理を施しても光電変換効率をさらに高めることができること。
Ultra-low Thermal Budget Achieving the highest possible temperature gradient in sub-micro seconds, LT-3100 is able to anneal fragile substrates without damaging critical device structures.
超低サーマルバジェット サブマイクロ秒のわずかな時間で、ウェーハ最表面のみのアニールを実現。LT-3100は、壊れやすい基板であっても、デバイス構造の重要な部分を傷つけることなく熱処理が可能です。
Thus, it is possible to form a gas atmosphere in a wide range along the scan direction and effectively perform laser processing such as anneal by using the preferable gas atmosphere upon laser application.
走査方向に沿って広範囲にガス雰囲気を形成することができ、レーザ光照射時のガス雰囲気を良好にしてアニールなどのレーザ処理をより良好なものにできる。
Its optimized hardware and temperature control delivers unsurpassed spike anneal uniformity for implant and other anneals, and extended low-temperature salicide processing.
その最適化されたハードウェアと温度制御により、注入やその他のアニール、拡張された低温サリサイド処理において、卓越したスパイク・アニールの均一性を提供します。
Low oxygen atmosphere Single wafer processing makes it possible to anneal in a strictly-controlled low oxygen atmosphere.
低酸素雰囲気 ウェーハを枚葉処理で行うため、厳しく管理された低酸素雰囲気下でのアニール処理が可能です。
Moreover, Applied has defined an integrated cobalt suite that includes anneal on the Producer platform, planarization on the Reflexion LK Prime CMP platform and e-beam inspection on the PROVisionTM platform.
そしてさらに、Producerプラットフォーム上でのアニール処理、Reflexion LK Prime CMP プラットフォームでの平坦化処理、PROVisionTMプラットフォームでの電子ビーム検査を含めた統合コバルト製品群を設定しました。
Our broad lineup of products are followings: standard type, small target/short distance type, and small target/long distance type for each general and high-speed (95% response at 50ms) models, and glass type, lamp anneal type, film type, and burning gas type for various application models.
汎用形の標準タイプ、小径用・近距離タイプ、小径用・遠距離タイプと、それぞれ高速仕様（95%応答50ms）および、用途別のガラス用、ランプアニール用、フィルム用、燃焼ガス用などをラインアップしました。
Since the cooling or freezing rate of iron cast into permanent molds is quite high, the thinner sections of the casting will have cementite. To remove the cementite the castings must be annealed, and it is universal practice to anneal all castings.
永久鋳型に鉄鋳物の冷却または凍結速度は非常に高いですので、， 鋳物のシンナーのセクションでは、セメンタイトを持っています. セメンタイトを削除するには鋳物をアニールする必要があります， そしてすべての鋳物をアニールする普遍的な方法であります.
A laser or a metal needle is used to divide a light absorbing layer (3) and a buffer layer (4) by removing the light absorbing layer and the buffer layer. Next, laser is applied to a portion containing the divided end portion so as to thermally melt the end portion and perform laser anneal to make the substantially vertical end portion into an inclined state.
レーザーや金属針などによって、光吸収層及びバッファ層を除去することにより光吸収層３とバッファ層４を分割し、次いで、分割した端部を含むようにレーザーを照射することにより端部を熱的に溶解させ、ほぼ垂直だった端部を傾斜状にレーザーアニール加工をおこなう。
Prepare a member in which a coating composition containing an organic conductive material is applied on a plastic substrate and a wiring pattern is formed, irradiate electromagnetic waves on at least the wiring pattern and anneal, and thus form wiring which is formed from organic conductive material.
プラスチック基板上に有機導電性材料を含む塗布組成物が塗布されて配線パターンが形成された部材を準備し、少なくとも前記配線パターンに電磁波を照射してアニールし、有機導電性材料からなる配線を形成する。
This can be applied to an ELA (excimer laser anneal) device of the SLS (Sequential Lateral Solidification) method.
ＳＬＳ（Sequential Lateral Solidification）方式のＥＬＡ（エキシマ・レーザ・アニール）装置に利用できる。
A circuit board manufacturing method includes formation of a thermosetting photosensitive resin film on an insulating board by a spin coat method and the like, exposure of the photosensitive resin film to radiation rays such as ultraviolet rays, development with a developer or by etching, heat-hardening of the photosensitive resin film, oxygen plasma treatment or ultraviolet treatment if required, adjustment of a water quantity in the photosensitive resin film by drying the resin film, exposure in a fluorine gas atmosphere, anneal treatment, and then immersion of the resin film in a fluorinated acid chemical.
絶縁基板上に熱硬化性の感光性樹脂膜をスピンコート法などによって形成し、感光性樹脂膜を紫外線などの放射線を露光し、現像剤又はエッチングによって現像し、感光性樹脂膜を加熱硬化し、必要に応じて酸素プラズマ処理若しくは紫外線照射処理し、該感光性樹脂膜を乾燥して樹脂膜中の水分量を調整し、次いでフッ素ガス雰囲気に曝し、アニール処理をし、次いでフッ酸系薬液で樹脂膜を浸漬することを含む回路基板の製造方法。
In particular, a spacer for liquid crystal display comprising base particles whose surface is coated with a polymer, which spacer satisfies the relationship of the formula: A1 – B >= 1˚ (1) wherein A1 represents a water contact angle measured at 25˚C after a procedure comprising annealing for 1 hr or more at a temperature not lower than the anneal temperature (T1) during liquid crystal display production and cooling, and B represents a water contact angle measured at 25˚C without performing the above annealing operation.
本発明は、基材粒子と、前記基材粒子の表面を被覆する重合体とからなる液晶表示装置用スペーサであって、液晶表示装置製造時のアニール温度Ｔ１以上の温度で１時間以上アニール処理した後冷却して、２５℃にて測定したときの水の接触角Ａ１と、前記アニール処理を行わずに、２５℃にて測定したときの水の接触角Ｂとが、下記式（１）の関係を満たす液晶表示装置用スペーサである。
METHOD OF MANUFACTURING CRYSTALLINE SEMICONDUCTOR AND LASER ANNEAL APPARATUS
結晶質半導体の製造方法およびレーザアニール装置
The present invention provides a method for the DNA typing of HLA, which is characterized by comprising: (1) a step of preparing a set of primers which can respectively anneal specifically to an upstream region and a downstream region of each of HLA-A, HLA-B, HLA-C, HLA-DQA1, HLA-DQB1, HLA-DPA1 and HLA-DPB1 genes in the nucleotide sequence for the human genome, and also preparing a set of primers which can respectively anneal specifically to exon-2 and a 3′-side non-translated region in HLA-DRB1; (2) a step of carrying out the PCR amplification of a sample to be tested (DNA) using the sets of primers; (3) a step of determining the nucleotide sequence for a PCR-amplified product; and (4) an optional step of carrying out the homology search in a data base.
本発明は、（１）ヒトゲノム塩基配列におけるＨＬＡ－Ａ、ＨＬＡ－Ｂ，ＨＬＡ－Ｃ，ＨＬＡ－ＤＱＡ１，ＨＬＡ－ＤＱＢ１，ＨＬＡ－ＤＰＡ１及びＨＬＡ－ＤＰＢ１の各遺伝子の上流領域及び下流領域に各々特異的にアニールするプライマーセットならびにＨＬＡ－ＤＲＢ１のエクソン２及び３｀側の非翻訳領域に特異的にアニールするプライマーセットを準備するステップ；（２）前記プライマーセットを用いて被検試料（ＤＮＡ）をＰＣＲ増幅するステップ；（３）ＰＣＲ増幅された産物の塩基配列を決定するステップ；及び（４）任意に、データベースとのホモロジー検索を実施するステップを含むことを特徴とする、ＨＬＡのＤＮＡタイピング方法を提供する。
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